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浙江邁創微電子技術有限公司在浙江省杭州市臨安區青山湖科技城投資建設有一個國內先進的新型高端芯片研發中試基地。中試基地采用12英寸、28納米集成電路制造工藝，引進浸沒式光刻機、金屬物理氣相沉積和透射電子顯微鏡等設備，致力于建設成為國內領先、國際一流，集研發和產業化于一體的微納技術研發中試線。主要面向國內從事與微納技術相關的企業、高校和科研院所，提供新型存儲器、新一代圖像傳感器等產品從技術研發到中試生產的服務。
本中試線具有以下特點：
1.???? 完備性。中試線集成了基于先進光刻工藝的芯片研發的整體設備，實現了從基片到成品的工藝完整性，擁有常規和個性化的檢測設備，適合于新型集成化電子器件的研發。
2.???? 先進性。中試線可以實現28納米線寬的器件光刻，是國內最先進的微電子特色工藝加工中試線。
3.???? 獨特性與唯一性。中試線是國內唯一、國際上也為數不多的同時具備研發與加工微電子半導體器件、自旋電子器件、傳感器等器件的技術平臺。
4.???? 具有產品試制和小批量生產供貨的能力。中試線可以進行新型器件的研發，也可以在器件研發成功的基礎上進行中試和小批量生產，為大批量生產奠定基礎，可以縮短從研發到量產的進程。
5.???? 具備中試和規?；慨a的無縫連接。中試線具有跟量產線無縫對接的設計、廠房、設備等，可以縮短中試轉量產的時間，減少轉移的技術風險。